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在線CVD制備硅質膜技術是以硅烷、乙烯為原料，浮法錫槽為制備硅質膜提供了適合的溫度和還原性氣氛。硅烷、乙烯和氮氣按一定比例進入安置在玻璃板上面的反應器，并以穩定的層流方式流過玻璃板表面，這時，硅烷借助反應器的特殊結構，并在還原氣氛的條件下，溫度超過400℃時開始分解，形成產物是無定形硅，當溫度超過600℃時，形成多晶硅。多晶硅沉積在玻璃表面形成硅質膜層，同時硅烷反應后產生的氫被乙烯吸附，生產乙烷和甲烷。這些多余氣體和呈褐色的多余硅質粉一起從反應器兩側的排氣孔排走，其化學反應式如下：

SiH₄→Si+H

C₂H₄+H→C₂O₆(或CH)

浮法玻璃在線鍍硅質膜生產工藝示意圖見4-19.

混合氣體經由反應器以層流方式流向玻璃板，經過擴散、吸附、熱分解和氫解吸附，從而在玻璃板上沉積形成多晶硅膜。

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